等离子催化净化器主要分为以下几种：
一、有机废气的燃烧及催化净化设备，燃烧法用于处理高浓度Voc与有的化合物报、其原理是用过量的空气使这些杂质燃烧，大多数生成二氧化碳和水蒸气，可以排放到大气中，但当处理含氯和含硫的有机化合物时，燃烧生成产物中HC1或SO2,需要对燃烧气体处理。
二、吸收设备：吸收法采用低挥发或不挥发性溶剂对VOCs进行吸收，再利用应气处理塔VOCs和吸收剂物理性质的差异进行分离，含VOCs的气体自吸收塔应部进入塔内，在上升过程中与来自塔顶的吸收剂造流接触。净化后的气体由塔预排出，吸收了VOCs的吸收剂通过热交换器后，进入汽提塔顶部，在温度高于吸收温度或压力低于吸收压力的条件下解吸，解吸后的吸收剂经过溶剂冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs气体经过冷凝器、气液分离器后以较纯的VOCs气体离开汽提塔，被回收利用，该工乙适合于VOCs浓度较高，温度较低的气体净化，其他情况下需要作相应的工艺调整。
三、光催化和生物净化设备，无强化是常温反应技术，无强化氧化可在室温下将水，空气和土壤中有机染物镇化或无言的产物，而件镜的高温发资技术期要在的温度下才可将污染物报毁，用常规的催化、氧化方温亦需要儿百度的高温，从赠论上语，只要半导体吸收的光能不小于其带障能，就足以激发产生电子和空穴，该半号体证有可用作无强化制，含见的单一化合物光强化制多为金属氧化物或化物，如TO.Zno. Zns、Cds及PS等，这懂化制各自对特定反应有突出优点，具体中可根据信要选用，如CdS半导体带限能较小，跟太阳北速中的迁外光没有较好的区配性能，可以报好地利用自然光能，但它容局发生无富蚀，使用寿会有限相对面言，THO的综合性是广泛使用和的单一化合物无量化制。
四、吸附设备：在用多孔性固体物质处理流体混合物时，流体中的某一组分或某组分司被吸表面并浓集其上。此现象称为吸附。吸附处理废气时，吸附的对象是气态污染物，气固吸附，被吸附的气体组分称为吸附质，多孔固体物质称为吸附剂。固体表面吸附了吸附质后，一部分被吸附的吸附质可从吸附剂表面脱离，此现附。而当吸附进行一段时间后，由于表面吸附质的浓集，使其吸附能力明显下降而吸附净化的要求，此时需要采用的措施使吸附剂上已吸附的吸附质脱附，以协的吸附能力，这个过程称为吸附剂的。在实际吸附工程中，正是利用吸附一一再吸附的循环过程，达到除去废气中污染物质并回收废气中有用的组分。
五、工业有机废气的低温等离子体的治理设备，等离子体就是处于电离状态的气体，其关文名称是plasma.它是由科学，于1927年在纸气压下气中放电现象时会名的，等离子体由大量的子、中性原子、激发态原子。光子和自由基等组成，但电子和正离子的电有数体表现出电中性，这就是“等离子体”的含义，等离子体具有导电制受电品影响的许多方面与国体，波体和气体不同，又有人把它称为物页的第四种状态。
